第122章 三大件的解决方案
euv光刻机的核心技术,主要由三大系统构成。
首先是euv光源系统,这个系统负责制造光刻过程中,需要用到的特殊光线。
从第一代的uv光刻机,到第五代的euv光刻机,光线的波长也从436nm,缩短到了13.5nm,目前所有的光刻机,就是通过光线的不同,来区分技术等级的。
这其中主要涉及到的原理,就是光学中光线波长和清晰度的关系。
最简单的道理,就是进入黄色的钨丝灯房间,大部分人都会感觉视线昏暗,
哪怕多加几个灯泡,也始终感觉没有白色的led灯那么明亮和清晰。
这就是因为黄色光的波长,要远高于白色光,
光线的波长,就像是海浪一样,越大的波浪,拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
而这个水位的高低落差,换成在光学领域,就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。
因此,想要达到越小制程的芯片工艺,就需要波长越短,越无限接近绝对直线的光。
而在euv光源技术上,据康驰目前所能查到的资料来看,国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了,但具体到了哪一步,康驰也不清楚。
他打算先试着了解一下情况,
如果条件允许,价格合适的话,他可能会直接向他们进行采购,
哪怕技术稍微不达标,采购过来自己再进行改良优化,也能节省大量的时间和精力。
毕竟一台光刻机里面,有足足十几二十万的零部件,全靠大唐重工自己来做的话,那得搞到猴年马月去。
而向他们采购,既不浪费他们的科研成果,还能利用上他们的生产力,
也算是共赢了。
所以康驰这次,并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。
放着华国这么完整的产业链不用,反倒自己去搓每个螺丝,不但浪费国内这么好资源和基础,更是闭门造车吃独食的表现。
而能用本国的产业链,来完成一台光刻机的所有零件制造,全球有且只有一个国家才有可能做到,
那就是华国。
换成老m也不行。
他们也没办法只在本国,就找到光刻机全部零部件的供应商,得全球多国合作协同才行。
而巨大的资源协调成本,更是会大大加重整个研发项目的费用和时间,
这也是华国的很多产品,能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
总之,无论常春光所有没有突破euv光源的技术,康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力,来迅速获得一套可行的光源系统。
现在光刻的光有了,
下一步就是把光,通过一个光学系统,收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统,也是整台光刻机中,造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线,进行升级,然后把它给拆了,直接获得光刻机镜片和反射镜制造,所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多,
而且升级后的生产线,估计连解析项目都没有,
因为里面的大部分技术,康驰在解析光刻机的时候,就已经得到了,他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是,需要他在接下的项目中,进行一定的混淆视听,把这些拆分开的组件,神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯,
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究,
到时候估计也是康驰让他们干什么,他们就干什么,思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统,则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单,就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位,但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度,决定了光刻机的效率,
移动太慢了,光刻机的产量就不行,
这就要求它,在高速移动后,还得迅速且精准地停下,
停留的位置误差,还得在1nm以内,