第121章 euv!
回到自己的基地,康驰从他的保险柜里掏出了那张尘封了有段时间的显卡,看着显卡的系统面板陷入了沉思。
14纳米的芯片制程,对于一年前的康驰来说,似乎是一件遥不可及的黑科技,
但经过了这一年多的发展,已经在国内科技领域建立了一定声望的他,却不禁开始思考到底有没有必要,去解析一台14纳米的光刻机技术了……
纵观整个华国的芯片产业,在国家的大力扶持和发展下,其实大部分的技术都已经攻克了。
上游的原材料有了大汉硅业,
中游的关键设备蚀刻机有中葳,
他们已经掌握了5纳米的蚀刻工艺,成了全球五大蚀刻机供应商之一,
甚至连全球最大的晶圆厂台机电,都在向中葳采购蚀刻机。
而在光刻领域,国内其实也在齐头并进,
比如吴利鸿那边,主要就在负责光刻胶的研发,目前也已经取得了一定的突破。
同时,信越化工等光刻胶材料商,在吸取了硅片失利的教训之后,已经转变了思路,不再像以前那样动不动就涨价限量把华国逼的太紧,转而开始了降价促销之路。
所以至少以目前的形势来看,光刻胶的研发已经不再紧迫紧迫了。
剩下的,就是人们最熟知的光刻机了。
光刻机这玩意在晶圆制造中,也确实是最难的,但在无数华国科研工作者的努力下,一座座的技术高峰都已经陆续被征服。
攻克euv光刻机,也只是时间早晚的问题。
作为全球唯一一家能生产 euv极紫外光刻机的企业,阿斯麦ceo老温的说辞,更是华国光刻机研发进程最真实的写照。
一开始他说:“就算将光刻机的图纸拿给华国人,华国人也制造不出先进的光刻机。”
后来光刻机断供,华国开始全力研发光刻机并捷报频频。
这货又连忙改口说:“其实物理定律全世界都一样,华国人没道理造不出来。”
变脸之快,都可以去演川剧了……
同时为了保住在华国市场,他们还疯狂向华国出口duv光刻机。
综上分析,其实华国目前真正缺的,不是中低端的duv光刻机,而是7纳米以内高端制程的euv光刻机。
这不但体现在进口光刻机,国产光刻机同样如此。
目前魔都微电子已经可以量产,90nm制程的duv光刻机了,
28nm的duv浸没式光刻机,也已经有了工程样机,达到量产也已经是指日可待了。
而一旦彻底掌握了浸没式技术,再继续压缩制程,也就变成水到渠成了。
比如康驰手上这块14纳米制程的显卡,只要在28nm的duv浸没式光刻机基础上,加个双工作台模式就能达到,
因此属于国内其它研发团队,可能很快就能突破的技术。
所以从必要性上看,也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。
而以如今的康驰的成就,就算造出了evu光刻机,想必大家虽然惊讶,但肯定不会觉得他是外来物种……
想到这里,康驰果断选择了给这张显卡升级!
通用经验-3196!
随着一道微光闪过,这张显卡的外形再次发生了变化。