办公室里,林本坚听完了张汝京的叙述,露出了惊喜的笑容:“做出来了?太好了!恭喜她,恭喜他们。”
是的,是恭喜miss王,是恭喜他们,而不是恭喜自己。
因为他从来都不认为自己是浸润光刻的开山鼻祖。
严格来讲,浸润光刻不是多新奇的概念。
1984年日立的员工就曾申请过在镜头和光刻胶间加入液体的相关专利。1985年,perkin-elmer更是申请了镜头浸入水中的专利。
而在1987年,当时就职于ibm的他在公开学术会议上,提出的是将这类技术应用于249纳米光刻焦深的方案。
是的,miss王和她的团队自称是看了他的这篇论文,所以才对浸润光刻产生了兴趣,写邮件给他,希望能得到更多的指点。
但林博士更加相信,他的那篇文章最大的意义是起了一个科普的作用,相当于一个先入门的人给后来者做了点儿介绍而已。
所以现在听到后来者居上,既然已经做出了193纳米波长的浸润式光刻机的实验机,他除了为对方高兴之外,剩下的只有“果然,浸润光刻理论是能从纸面走向现实的”。
其余的,没有了,真的没有了。
张汝京正在一口饼干,一口苏打水。
他也是飞机上睡觉,下了飞机就干活的典范。
整整20几个小时,除了飞机上吃了一餐,他粒米未进,滴水未沾。先前赶路,情绪亢奋,还没什么感觉,现在真是饥肠辘辘。
得亏林博士是个善良的人,把自己的加班口粮贡献了出来。
所以张博士才能好不容易咽下饼干之后,好歹有体力说话了:“现在恭喜说的太早了,他们真的只是实验机,连干式193纳米波长的原型机都造不出来的实验机。所以,burn,你必须得跟我走,你得帮他们。”
林本坚愣住了,下意识地反问了一句:“我帮他们?”
张汝京用力点头:“对!这是一项伟大的突破,它的价值丝毫不逊色于紫外线光刻。”
他之所以特地把紫外线光刻拿出来说,是因为在80年代后期,也就是差不多十来年前,蓝色巨人ibm乃至全球芯片界,一度卯足了劲儿搞x光光刻的研发。
当时就职于ibm华生研究中心的林本坚却提出了不同的看法,认为应该做紫外线光刻。
因为x光的光源难以解决,需要大型粒子加速器提供稳定光源,操作难度系数高,而且很快就会抵达天花板,清晰度没办法继续往上升。
相反的,做紫外线光刻,光源好说,操作简单,提升空间也大。
可他不管怎么向老板申请,甚至主动提出,只要x光项目组的1/10的经费,依然没能获得支持。
这也成为了他最终选择离开ibm的原因之一。
而时间过了十多年,光刻机的发展历程证明了,紫外线才是正确的选择,深紫外光刻机先后推出了248纳米、193纳米等波长的技术,适配了半导体规模化生产的需求。
现在行业又开始推进极紫外(euv)光刻研发。
与此同时,曾经风光一时的x光光刻机已经迅速被边缘化。
张汝京眼睛闪闪发亮:“我敢打赌,十年,很可能只需要五年的时间,浸润式光刻机就会向紫外光打败x光一样,成为新的主流。burn,你又要创造历史了!”
真是让人羡慕呀。
但是被热烈赞叹的人还处于一种懵的状态中,他努力消化着对方热情洋溢的言语,不得不以冷静客观的态度提醒自己的同行:“richard,不是我不愿意参与到这项工作中去,而是我去了能做什么呢?你太高估我的能力了。事实上,除了帮忙找一些资料之外,我自认为没为他们做过什么。”
他摆事实讲道理,“镜头和光刻胶之间的液体选用去离子水,一开始就是miss王自己选的,理由是芯片厂本来就用去离子水。后来因为去离子水会跟光刻胶产生反应,他们为了解决这个问题,确实给我写了邮件,我认为是水中的杂质太多的原因,应该把水中的颗粒、有机物、微生物全部都去除掉,改成超纯水。”
他实话实说,“这大概是我唯一为他们提出的有建设性的意见,而他们也采用了。除此之外,包括让超纯水持续流动的想法也是他们自己想的,理由是流水不腐,户枢不蠹,流动的水才可能洁净。”
这给他造成了不小的震撼,有一种万事万物的道理是贯通的感觉。
他得承认,他很愿意跟这个团队交流,他从邮件中感受到了他们火热的热情。这样的热情,是支撑所有事物发展的根本动力之所在。